728x90 PR1 Photolithography photolithography process cleaning wafer prime spin coating of PR soft bake alignment & exposure PEB development hard bake etching PR strip 1. cleaning RCA cleaning : a standard set of wafer cleaning step 중요한 공정 이전, 이후에 사용되는 경우가 많다. wafer를 깨끗하게, 잔여물을 제거하기 위해서 RCA cleaning 공정을 사용한다. 다량의 화합물이 필요하다. Piranha : remove organic residue, 황산과 과산화수소수를 이용 ← 과산화수소수가 산화, 황산이 산화막 제거 SC-1 : remove organic & par.. 2023. 10. 23. 이전 1 다음 728x90