728x90 sputter1 Sputter sputtering공정은 플라즈마를 통해 양이온이 전기장의 힘을 받아 음극으로 가속되는 현상을 이용한 공정이다. 가속된 양이온은 음극과 충돌하게 되며, 충돌에너지가 큰 경우에는 음극을 구성하고 있는 물질의 표면에서 원자를 떼어낼 수 있다. 볼 풀이 있다고 생각해보자. 여기에 농구공을 아주 세게 던진다고 생각하면 볼들이 튕겨져 나와서 주변 벽면에 부딪힐 것이다. 벽면을 기판이라고 생각하면 쉽다. 벽면에 부딪힌 볼들이 증착되는 것이 sputter 공정이다. Sputter 장비의 구성 pumping : 1차, 2차 펌프가 연결되어 있다. power supply : 음극에 전원을 공급하며 DC라 써놓긴 했지만 AC를 써도 된다. 대부분의 경우, AC주파수 중 13.56Hz의 주파수를 가진 고주파 (RF) 교류를.. 2023. 10. 20. 이전 1 다음 728x90
